ZEIT-Beschichtungstechnologiezentrum hat sich das Verfahrensentwicklungsprojekt Suzhous PECVD aufgenommen. Nach Hälfte Monat der Verfahrensentwicklung und des technologischen Durchbruches, schloss ZEIT den PECVD-Prozess von SiNx ab und Filme SiO2, erreichten die Indizes der Oberflächeneinheitlichkeit und jeder Schichteinheitlichkeit.
Durch dieses Projekt hat ZEIT eigene Eigenschaften in den Kerntechnologien von PECVD-Ausrüstung, wie Rf gebildet, der, schneller und stabiler Reaktionsdruck, einheitliche Verteilung des Luftstromes zusammenpaßt und auch vorgeschlagene Lösungen für Staubverschmutzung, kopierte Filmoberfläche, die Kammer, die selbstreinigend sind, etc., das aus dem sich ergibt, ZEIT hat angesammelt viel Erfahrung der PECVD-Ausrüstungsoptimierung und der technologischen Anpassung hat, die einen festen Grundstein für Importsubstitution, Industrialisierung und ununterbrochene Kundschaftsbeziehungen gelegt hat.