127mm × 127mm Quarz-Fotomasken-Substrat für FPD-Gebrauch
Anwendungen
Die Felder des Photolithographieprozesses, wie Chipherstellung der integrierten Schaltung, FPD (Flachbildschirmanzeige),
MEMS (elektrische mechanische Mikrosysteme), etc.
Funktions-Prinzip
Maske ist eine Maske der grafischen Vorlage, die in der Photolithographie der mikro-Nano-Herstellung allgemein verwendet ist. Die grafische Struktur
wird auf einem transparenten Substrat durch eine undurchsichtige Fotomaske gebildet, und dann werden die grafischen Informationen auf übertragen
Produktsubstrat durch einen Belichtungsprozeß.
Eigenschaften
Fotomasken-Substrat für FPD-Gebrauch
| Modell/Material | Größe | Aufbereitungskapazität |
| 5 Zoll/Quarz | 127mm × 127mm | Reiben, polierend, Chrome-Überzug und kleben |
Prozessfluß
→ Rohstoffentdeckung;
→ raues Reiben;
→ raues Polieren;
→ Maskenreinigung;
→ Rohstoff-Leistungsinspektion;
→ überzog durch Chrom;
→ Masken-Leistungstest;
→ Fotoresistbeschichtung;
→ Verpacken;
→ Transportieren.
Unsere Vorteile
Wir sind Hersteller.
Reifer Prozess.
Antwort innerhalb 24 Arbeitsstunden.
Unsere ISO-Bescheinigung
Teile unserer Patente
Teile unserer Preise und Qualifikationen von R&D
Unsere Produkte werden auf der ganzen Welt verkauft. Sie können sich auf den gesamten Prozess unserer Produkte verlassen.
