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Dielectric Films Optical Coating Equipment Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition

Dielektrische Filme Optische Beschichtungsausrüstung Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition

  • Markieren

    ZEIT-pvd spritzen Absetzung optische beschichtende Ausrüstung

    ,

    Filmmagnetronspritzenabsetzung ZEIT dielektrische

    ,

    N2-O2-pvd ZEIT AR spritzen Absetzung

  • Gewicht
    2500 ± 200 kg, anpassbar
  • Größe
    2800 mm * 1000 mm * 2300 mm, anpassbar
  • Kundengerecht
    Verfügbar
  • Garantiezeit
    1-jährig oder Fall für Fall
  • Versandausdrücke
    Auf Meer/dem Luftweg/multimodalem Transport
  • Herkunftsort
    Chengdu, VR CHINA
  • Markenname
    ZEIT
  • Zertifizierung
    Case by case
  • Modellnummer
    MSC700-750-700
  • Min Bestellmenge
    1 Satz
  • Preis
    Case by case
  • Verpackung Informationen
    Holzschatulle
  • Lieferzeit
    Von Fall zu Fall
  • Zahlungsbedingungen
    T/T
  • Versorgungsmaterial-Fähigkeit
    Von Fall zu Fall

Dielektrische Filme Optische Beschichtungsausrüstung Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition

PVD-Magnetron-Spritzenabsetzung

 

 

Anwendungen

Anwendungen  Spezifischer Zweck  Materielle Art
Halbleiter  IC, LSIelektrode, Film verdrahtend  AI, Al-Si, Al-Si-Cu, Cu, Au, Pint, PD, AG
 Vlsi-Gedächtniselektrode  MO, W, Ti
 Diffusionsbarrierefolie  MoSix, Wsix, TaSix, TiSx, W, MO, W-Ti
 Klebefilm  PZT (Pb-ZrO2-Ti), Ti, W
 Anzeige  Transparenter leitfähiger Film  ITO (In2O; - SnO2)
 Elektrodenverdrahtungsfilm  MO, W, Cr, Ta, Ti, Al, AlTi, AITa
 Leuchtfilm

 ZnS-Mangan, ZnS-TB, CAS-Eu, Y2O3, Ta2O5,

 BaTiO3

 Magnetische Aufzeichnung  Vertikaler Film der magnetischen Aufzeichnung  CoCr
 Film für Festplatte  CoCrTa, CoCrPt, CoCrTaPt
 Dünnfilmmagnetkopf  CoTaZr, CoCrZr
 Künstlicher Kristallfilm  Kopte, CoPd
Optische Aufnahme  Phasenänderungs-Disketten-Aufnahmefilm  TeSe, SbSe, TeGeSb, usw.
 Aufnahmefilm der magnetischen Scheibe

 TbFeCo, DyFeCo, TbGdFeCo,

TbDyFeCo

 Reflektierender Film der optischen Speicherplatte  AI, AITi, AlCr, Au, Aulegierung
 Schutzfilm der optischen Speicherplatte  Si3N4, SiO2+ZnS
 Perowskitdünnfilmbatterie  Transparente Leitschicht  ZnO: Al
 Ärztliche Behandlung  Biocompatible Materialien  Al2O3, TiO2
 Dekorative Beschichtung  Farbiger Film, metallisierter Film  Al2O3, TiO2undalleArtenMetallfilme
 Anti-Verfärbungsbeschichtung  Edelmetallantioxidierungsbeschichtung Al2O3, TiO2
 Optische Filme  Hoch-niedriger Brechungskoeffizient  SiO2, TiO2, Ta2O5, ZrO-₂, HfO2
 Andere Anwendungen  Lichtdichter Film  Cr, AlSi, AlTi, usw.
 Widerstrebender Film  NiCrSi, CrSi, MoTa, usw.
 Supraleitender Film  YbaCuO, BiSrCaCuo
 Magnetfilm  F.E., Co, Ni, FeMn, FeNi, usw.

 

Funktions-Prinzip

Das spritzende Magnetron ist eine Art körperliches Bedampfen (PVD). Es trifft die Elektronmaßnahme in der Spirale

Wege nahe der Zieloberfläche durch die Interaktion zwischen den magnetischen und elektrischen Feldern, so sich erhöhen

Wahrscheinlichkeit von den Elektronen, die Argongas schlagen, um Ionen zu erzeugen. Die erzeugten Ionen schlugen dann die Zieloberfläche

unter der Aktion des elektrischen Feldes und die Zielmaterialien zu deposite Dünnfilm auf der Substratoberfläche spritzen.

Die allgemeine Spritzenmethode kann für Vorbereitung von verschiedenen Metallen, die Halbleiter angewendet werden, ferromagnetisch

Materialien sowie Isolieroxide, Keramik und andere Substanzen. Die Ausrüstung verwendet PLC+-Note

Kontrollsystem der Platte HMI, das Parameter durch programmierbare Prozessschnittstelle eintragen kann, mit den Funktionen

wie spritzendes, mehrsprachiges aufeinander folgendes spritzendes und mit-spritzendes einziges Ziel.

 

Eigenschaften

  Modell   MSC700-750-700
  Beschichtende Art   Verschiedene dielektrische Filme wie Metallschicht-, Metalloxid und AIN
  Beschichtende Temperaturspanne   Normale Temperatur zu 500℃ (kundengerecht)
  Beschichtende Unterdruckkammergröße   700mm*750mm*700mm (kundengerecht)
  Hintergrundvakuum   <5>-7mbar
 Anstrichschichtdicke   ≥10nm
  Stärkeregelgenauigkeit   ≤±3%
  Maximale beschichtende Größe   ≥100mm (kundengerecht)
  Dickeneinheitlichkeit   ≤±0.5%
  Substratfördermaschine   Mit planetarischem Rotationsmechanismus
  Ziel-Material   Zoll 4x4 (kompatibel mit 4 Zoll und untengenannt)
  Stromversorgung  Die Stromversorgung wie DC, Impuls, Rf, WENN und Neigung optional sind
  Prozessgas   AR, N2, O2
Anmerkung: Kundengebundene Produktion verfügbar.

                                                                                                                

Beschichtende Probe

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Prozessschritte

→ setzen das Substrat für das Beschichten in die Unterdruckkammer;

→ vacuumize ungefähr;

→ drehen sich auf molekulare Pumpe, vacuumize mit Höchstgeschwindigkeit, dann drehen sich auf die Revolution und die Rotation;

→, welches die Unterdruckkammer erhitzt, bis die Temperatur das Ziel erreicht;

→ führen die konstante Temperaturüberwachung ein;

→ säubern Elemente;

→ rotieren und zurück zu dem Ursprung;

→ beschichtender Film entsprechend Prozessanforderungen;

→ senken Temperatur und stoppen die Pumpenversammlung, nachdem es beschichtet hat;

→ hören auf zu arbeiten, wenn die Selbsttätigkeit fertig ist.

 

Unsere Vorteile

Wir sind Hersteller.

Reifer Prozess.

Antwort innerhalb 24 Arbeitsstunden.

 

Unsere ISO-Bescheinigung

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Teile unserer Patente

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Teile unserer Preise

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