Selbst-entwickelte leistungsfähige optische Beschichtungsausrüstung mit 1200mm*500mm (besonders angefertigt)
Funktionsprinzip
Atomiclayer-Absetzung (ALD) ist eine Methode, durch die eine Substanz auf einer Substratschicht durch Schicht in Form eines einzelnen Atomfilmes niedergelegt werden kann.
Spezifikationsparameter
| Modell | ALD1200-500 |
| Beschichtendes Filmsystem | AL2O3, TiO2, ZnO und etc. |
| Beschichtende Temperaturspanne | Normales temperature-500℃ |
| Beschichtende Unterdruckkammermaße | Innerer Durchmesser 1200mm, Höhe 500mm (kundengerecht) |
| Unterdruckkammerstruktur | Besonders angefertigt entsprechend Kundenbedarf |
| Hintergrundvakuum | <5x10>-7mbar |
| Anstrichschichtdicke | ≥0.15nm |
| Stärkeregelgenauigkeit | ±0.Inm |
Verwendungsgebiet
| MEMS-Gerät |
| Leuchtplatte |
| Anzeige |
| Speichermaterial |
| Induktive Koppelung |
| Dünne Folienbatterie des Perowskits |
| Verpacken 3D |
| Lumineszenzanwendung |
| Sensor |
| Karpfenbatterie |
ALD-Technologie Vorteile
①Der Vorläufer ist gesättigte Chemisorption, die die Bildung eines einheitlichen Filmes des großen Gebiets sicherstellt.
②Mehrkomponenten- nanosheets und Mischoxide können niedergelegt werden.
③Inhärente Absetzungseinheitlichkeit, einfache Skalierung, kann direkt oben eingestuft werden.
④Kann an den verschiedenen Formen der Basis weit angewendet werden.
Unsere Produkte werden auf der ganzen Welt verkauft. Sie können sich auf den gesamten Prozess unserer Produkte verlassen.
