PVD-Magnetron-Spritzenabsetzung
Anwendungen
| Anwendungen | Spezifischer Zweck | Materielle Art |
| Halbleiter | IC, LSIelektrode, Film verdrahtend | AI, Al-Si, Al-Si-Cu, Cu, Au, Pint, PD, AG |
| Vlsi-Gedächtniselektrode | MO, W, Ti | |
| Diffusionsbarrierefolie | MoSix, Wsix, TaSix, TiSx, W, MO, W-Ti | |
| Klebefilm | PZT (Pb-ZrO2-Ti), Ti, W | |
| Anzeige | Transparenter leitfähiger Film | ITO (In2O; - SnO2) |
| Elektrodenverdrahtungsfilm | MO, W, Cr, Ta, Ti, Al, AlTi, AITa | |
| Leuchtfilm |
ZnS-Mangan, ZnS-TB, CAS-Eu, Y2O3, Ta2O5, BaTiO3 |
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| Magnetische Aufzeichnung | Vertikaler Film der magnetischen Aufzeichnung | CoCr |
| Film für Festplatte | CoCrTa, CoCrPt, CoCrTaPt | |
| Dünnfilmmagnetkopf | CoTaZr, CoCrZr | |
| Künstlicher Kristallfilm | Kopte, CoPd | |
| Optische Aufnahme | Phasenänderungs-Disketten-Aufnahmefilm | TeSe, SbSe, TeGeSb, usw. |
| Aufnahmefilm der magnetischen Scheibe |
TbFeCo, DyFeCo, TbGdFeCo, TbDyFeCo |
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| Reflektierender Film der optischen Speicherplatte | AI, AITi, AlCr, Au, Aulegierung | |
| Schutzfilm der optischen Speicherplatte | Si3N4, SiO2+ZnS | |
| Perowskitdünnfilmbatterie | Transparente Leitschicht | ZnO: Al |
| Ärztliche Behandlung | Biocompatible Materialien | Al2O3, TiO2 |
| Dekorative Beschichtung | Farbiger Film, metallisierter Film | Al2O3, TiO2undalleArtenMetallfilme |
| Anti-Verfärbungsbeschichtung | Edelmetallantioxidierungsbeschichtung | Al2O3, TiO2 |
| Optische Filme | Hoch-niedriger Brechungskoeffizient | SiO2, TiO2, Ta2O5, ZrO-₂, HfO2 |
| Andere Anwendungen | Lichtdichter Film | Cr, AlSi, AlTi, usw. |
| Widerstrebender Film | NiCrSi, CrSi, MoTa, usw. | |
| Supraleitender Film | YbaCuO, BiSrCaCuo | |
| Magnetfilm | F.E., Co, Ni, FeMn, FeNi, usw. |
Funktions-Prinzip
Das spritzende Magnetron ist eine Art körperliches Bedampfen (PVD). Es trifft die Elektronmaßnahme in der Spirale
Wege nahe der Zieloberfläche durch die Interaktion zwischen den magnetischen und elektrischen Feldern, so sich erhöhen
Wahrscheinlichkeit von den Elektronen, die Argongas schlagen, um Ionen zu erzeugen. Die erzeugten Ionen schlugen dann die Zieloberfläche
unter der Aktion des elektrischen Feldes und die Zielmaterialien zu deposite Dünnfilm auf der Substratoberfläche spritzen.
Die allgemeine Spritzenmethode kann für Vorbereitung von verschiedenen Metallen, die Halbleiter angewendet werden, ferromagnetisch
Materialien sowie Isolieroxide, Keramik und andere Substanzen. Die Ausrüstung verwendet PLC+-Note
Kontrollsystem der Platte HMI, das Parameter durch programmierbare Prozessschnittstelle eintragen kann, mit den Funktionen
wie spritzendes, mehrsprachiges aufeinander folgendes spritzendes und mit-spritzendes einziges Ziel.
Eigenschaften
| Modell | MSC700-750-700 |
| Beschichtende Art | Verschiedene dielektrische Filme wie Metallschicht-, Metalloxid und AIN |
| Beschichtende Temperaturspanne | Normale Temperatur zu 500℃ (kundengerecht) |
| Beschichtende Unterdruckkammergröße | 700mm*750mm*700mm (kundengerecht) |
| Hintergrundvakuum | <5>-7mbar |
| Anstrichschichtdicke | ≥10nm |
| Stärkeregelgenauigkeit | ≤±3% |
| Maximale beschichtende Größe | ≥100mm (kundengerecht) |
| Dickeneinheitlichkeit | ≤±0.5% |
| Substratfördermaschine | Mit planetarischem Rotationsmechanismus |
| Ziel-Material | Zoll 4x4 (kompatibel mit 4 Zoll und untengenannt) |
| Stromversorgung | Die Stromversorgung wie DC, Impuls, Rf, WENN und Neigung optional sind |
| Prozessgas | AR, N2, O2 |
| Anmerkung: Kundengebundene Produktion verfügbar. | |
Beschichtende Probe
Prozessschritte
→ setzen das Substrat für das Beschichten in die Unterdruckkammer;
→ vacuumize ungefähr;
→ drehen sich auf molekulare Pumpe, vacuumize mit Höchstgeschwindigkeit, dann drehen sich auf die Revolution und die Rotation;
→, welches die Unterdruckkammer erhitzt, bis die Temperatur das Ziel erreicht;
→ führen die konstante Temperaturüberwachung ein;
→ säubern Elemente;
→ rotieren und zurück zu dem Ursprung;
→ beschichtender Film entsprechend Prozessanforderungen;
→ senken Temperatur und stoppen die Pumpenversammlung, nachdem es beschichtet hat;
→ hören auf zu arbeiten, wenn die Selbsttätigkeit fertig ist.
Unsere Vorteile
Wir sind Hersteller.
Reifer Prozess.
Antwort innerhalb 24 Arbeitsstunden.
Unsere ISO-Bescheinigung
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ZEIT-Gruppe, im Jahre 2018 gegründet, ist eine Firma, die auf Präzisionsoptik, Halbleitermaterialien und High-Teche Intelligenzausrüstungen gerichtet wird. Basiert auf unseren Vorteilen in der Präzisionsbearbeitung des Kernes und des Schirmes, hat optische Entdeckung und Beschichtung, ZEIT-Gruppe unsere Kunden mit kompletten Paketen von kundengebundenen und Standardproduktlösungen versehen.
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