Nachricht senden
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System For Medical Treatment

Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System für die medizinische Behandlung

  • Markieren

    Magnetron-Sputterabscheidung für die medizinische Behandlung

    ,

    Al2O3 TiO2-Magnetron-Sputterabscheidung

    ,

    Magnetron-Sputtersystem für die medizinische Behandlung

  • Gewicht
    Anpassbar
  • Größe
    Anpassbar
  • Anpassbar
    Verfügbar
  • Garantiezeit
    1 Jahr oder von Fall zu Fall
  • Versandbedingungen
    Auf dem Seeweg / Luft / Multimodaler Transport
  • Herkunftsort
    Chengdu, VR CHINA
  • Markenname
    ZEIT
  • Zertifizierung
    Case by case
  • Modellnummer
    MSC-MT-X—X
  • Min Bestellmenge
    1 Satz
  • Preis
    Case by case
  • Verpackung Informationen
    Holzschatulle
  • Lieferzeit
    Von Fall zu Fall
  • Zahlungsbedingungen
    T/T
  • Versorgungsmaterial-Fähigkeit
    Von Fall zu Fall

Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System für die medizinische Behandlung

Magnetron-Sputtering-Abscheidung in der medizinischen Behandlungsindustrie
 
 
Anwendungen    

     Anwendungen     Spezifischer Zweck     Materialtyp
    Medizinische Behandlung     Biokompatible Materialien      Al2Ö3, TiO2

 
Arbeitsprinzip
Das Grundprinzip des Magnetron-Sputterns besteht darin, dass Elektronen beim Heranfliegen mit Argonatomen kollidieren

dasSubstrat unter der Einwirkung eines elektrischen Feldes, die erzeugten Argonionen bombardieren die Zieloberfläche.Nach der Energie

Austausch,die Atome auf der Zieloberfläche entkommen dem ursprünglichen Gitterund werden auf das Substrat übertragen

Oberfläche, um Filme zu bilden.
 
Merkmale 

  Modell   MSC-MT-X—X
 Beschichtungstyp   Verschiedene dielektrische Filme wie Metallfilm, Metalloxid und AIN
 Beschichtungstemperaturbereich   Normaltemperatur bis 500℃
 Vakuum beschichtenKammer Size  700 mm * 750 mm * 700 mm (anpassbar)
  Vakuum im Hintergrund   < 5×10-7Millibar
 Schichtdicke   ≥ 10nm
  Präzision der Dickenkontrolle  ≤ ±3 %
 Maximale Beschichtungsgröße   ≥ 100 mm (anpassbar)
  Gleichmäßigkeit der Filmdicke   ≤ ±0,5 %
  Substratträger  Mit Planetendrehmechanismus
  Zielmaterial   4×4 Zoll (kompatibel mit 4 Zoll und darunter)
  Stromversorgung  Die Stromversorgungen wie DC, Puls, RF, IF und Bias sind optional
  Prozessgas   Ar, N2, Ö2
  Hinweis: Kundenspezifische Produktion verfügbar.

                                                                                                                
Beschichtungsprobe

Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System für die medizinische Behandlung 0

 

Prozessschritte 
→ Legen Sie das zu beschichtende Substrat in die Vakuumkammer;
→ Grob saugen;
→ Molekularpumpe einschalten, mit Höchstgeschwindigkeit vakuumieren, dann Umdrehung und Rotation einschalten;
→ Erhitzen der Vakuumkammer, bis die Temperatur den Zielwert erreicht;
→ Implementieren Sie die konstante Temperaturregelung;
→ Elemente reinigen;
→ Drehen und zurück zum Ursprung;
→ Beschichtungsfolie nach Prozessanforderungen;
→ Senken Sie die Temperatur und stoppen Sie die Pumpenbaugruppe nach dem Beschichten;
→ Beenden Sie die Arbeit, wenn der automatische Betrieb beendet ist;

 
Unsere Vorteile
Wir sind Hersteller.
Reifer Prozess.
Antwort innerhalb von 24 Arbeitsstunden.

 
Unsere ISO-Zertifizierung
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System für die medizinische Behandlung 1
 

Teile unserer Patente
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System für die medizinische Behandlung 2Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System für die medizinische Behandlung 3
 

Teile unserer Auszeichnungen und Qualifikationen von F&E
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System für die medizinische Behandlung 4Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System für die medizinische Behandlung 5