Nachricht senden
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System In Functional Film Field

Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System im Bereich Funktionsfilm

  • Markieren

    Functional Film Field Magnetron Sputtering Deposition

    ,

    Superhard Film Magnetron Sputtering System

    ,

    Functional Film Magnetron Sputtering System

  • Gewicht
    Anpassbar
  • Größe
    Anpassbar
  • Anpassbar
    Verfügbar
  • Garantiezeit
    1 Jahr oder von Fall zu Fall
  • Versandbedingungen
    Auf dem Seeweg / Luft / Multimodaler Transport
  • Herkunftsort
    Chengdu, VR CHINA
  • Markenname
    ZEIT
  • Zertifizierung
    Case by case
  • Modellnummer
    MSC-FF-X—X
  • Min Bestellmenge
    1 Satz
  • Preis
    Case by case
  • Verpackung Informationen
    Holzschatulle
  • Lieferzeit
    Von Fall zu Fall
  • Zahlungsbedingungen
    T/T
  • Versorgungsmaterial-Fähigkeit
    Von Fall zu Fall

Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System im Bereich Funktionsfilm

Magnetron-Sputtering-Abscheidung im Bereich Funktionsfilme

 

 

Anwendungen

    Anwendungen     Spezifischer Zweck     Materialtyp
    Funktioneller Film     Superharter Film     TiN, TiC

    Lichtundurchlässiger Film

    Cr, AlSi, AlTi usw
    Widerstandsfilm       NiCrSi, CrSi, MoTa usw
   Supraleitender Film       YbaCuO, BiSrCaCuO
      Magnetfolie     Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi usw

 

Arbeitsprinzip

Es gibt viele Arten des Magnetron-Sputterns mit unterschiedlichen Arbeitsprinzipien und Anwendungsobjekten.Aber dort

ist eines gemeinsam: Es lässt die Elektronen durch Wechselwirkung zwischen ihnen auf spiralförmigen Bahnen in der Nähe der Targetoberfläche laufen

magnetische und elektrische Felder, wodurch die Wahrscheinlichkeit der Erzeugung von Ionen erhöht wird, die aus Elektronen entstehen, die auf Argon treffen.

Die erzeugten Ionen treffen dann unter der Wirkung eines elektrischen Feldes auf die Targetoberfläche und zerstäuben die Targetmaterialien.

 

Merkmale

  Modell   MSC-FF-X—X
  Beschichtungstyp   Verschiedene dielektrische Filme wie Metallfilm, Metalloxid und AIN
  Beschichtungstemperaturbereich   Normaltemperatur bis 500℃
  Größe der Beschichtungsvakuumkammer   700 mm * 750 mm * 700 mm (anpassbar)
  Vakuum im Hintergrund   < 5×10-7Millibar
 Schichtdicke   ≥ 10nm
 Präzision der Dickenkontrolle   ≤ ±3 %
  Maximale Beschichtungsgröße  ≥ 100 mm (anpassbar)
  Gleichmäßigkeit der Filmdicke  ≤ ±0,5 %
  Substratträger   Mit Planetendrehmechanismus
  Zielmaterial  4 × 4 Zoll (kompatibel mit 4 Zoll und darunter)
  Stromversorgung   Die Stromversorgungen wie DC, Puls, RF, IF und Bias sind optional
 Prozessgas   Ar, N2, Ö2
  Hinweis: Kundenspezifische Produktion verfügbar.

                                                                                                                

Beschichtungsprobe

Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System im Bereich Funktionsfilm 0

 

Prozessschritte

→ Legen Sie das zu beschichtende Substrat in die Vakuumkammer;

→ Grob saugen;

→ Molekularpumpe einschalten, vakuumierenbei Höchstgeschwindigkeit, dann schalten Sie die Umdrehung und Rotation ein;

→ Aufheizen der Vakuumkammer bis die Temperatur erreicht istZiel;

→ Implementieren Sie die konstante Temperaturregelung;

→ Elemente reinigen;

→ Drehen und zurück zum Ursprung;

→ Beschichtungsfolie nach Prozessanforderungen;

→ Senken Sie die Temperatur und stoppen Sie die Pumpenbaugruppe nach dem Beschichten;

→ Aufhören zu arbeiten, wennder Automatikbetrieb ist beendet.

 

Unsere Vorteile

Wir sind Hersteller.

Reifer Prozess.

Antwort innerhalb von 24 Arbeitsstunden.

 

Unsere ISO-Zertifizierung

Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System im Bereich Funktionsfilm 1

 

 

Teile unserer Patente

Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System im Bereich Funktionsfilm 2Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System im Bereich Funktionsfilm 3

 

 

Teile unserer Auszeichnungen und Qualifikationen von F&E

Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System im Bereich Funktionsfilm 4Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System im Bereich Funktionsfilm 5