ZEIT-Atomschicht-Abscheideanlage

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ZEIT-Atomschicht-Abscheideanlage

ALD

March 16, 2023

Category Connection: Atomic Layer Deposition Equipment

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ZEIT-ist Atomschichtabsetzung (ALD) eine Methode des Niederlegens der Substanzen auf der Oberfläche des Substrates in Form von einzelner Atomfilmschicht durch Schicht. Atomschichtabsetzung ist allgemeiner chemischer Absetzung ähnlich, aber bei Atomschichtabsetzung, ist die chemische Reaktion einer neuen Schicht des Atomfilmes direkt mit der vorhergehenden Schicht verbunden, damit nur eine Schicht Atome in jeder Reaktion dadurch niedergelegt wird.

Atomschicht-Absetzung ist in den Mikro-elektromechanischen Systemgeräten, in den Leuchtanzeigen, in den Speichermaterialien, in der induktiven Koppelung, in der Solarbatterie des kristallenen Silikons, in der Perowskitdünnfilmbatterie, in 3D, das verpacken, in der leuchtenden Anwendung, in den Sensoren, in der ärztlichen Behandlung, in der Korrosionsschutzschicht, in der Brennstoffbatterie, in der Lithium-Batterie, in den Festplattenlesen-/schreibenköpfen, in der dekorativen Beschichtung, in der Antiverfärbungsbeschichtung, in den optischen Filmen weitverbreitet, in etc. besonders anfertigte die verfügbare Produktion.

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Tags:

#Nanostruktur-Atomschichtabscheidung #Filtrations-Ald-Maschine #Mikroelektromechanische Systeme ALD