Spritzendes ZEIT-Magnetron ist eine Art körperliches Bedampfen (PVD). Es trifft die Elektronmaßnahme in den Spiralbahnen nahe der Zieloberfläche durch die Interaktion zwischen den magnetischen und elektrischen Feldern und so erhöht die Wahrscheinlichkeit von den Elektronen, die Argongas schlagen, um Ionen zu erzeugen. Die erzeugten Ionen dann schlagen die Zieloberfläche unter der Aktion des elektrischen Feldes und spritzen die Zielmaterialien zu deposite Dünnfilm auf der Substratoberfläche. Die allgemeine Spritzenmethode kann für Vorbereitung von verschiedenen Metallen, Halbleiter, ferromagnetische Materialien sowie Isolieroxide, Keramik und andere Substanzen angewendet werden. Die Ausrüstung benutzt Kontrollsystem des PLC+-Fingerspitzentabletts HMI, das Parameter durch programmierbare Prozessschnittstelle eintragen kann, mit den Funktionen wie spritzendem, mehrsprachiges aufeinander folgendes spritzendem und mit-spritzendem einzigem Ziel.

Als nicht-thermische beschichtende Technologie auf dem Gebiet von Mikroelektronik, ist Magnetronspritzenabsetzung im Halbleiter, in den Anzeigen, in der magnetischen Aufzeichnung, in der optischen Aufnahme, in der Perowskitdünnfilmbatterie, in der ärztlichen Behandlung, in der dekorativen Beschichtung, in der Anti-Verfärbungsbeschichtung, in den optischen Filmen, im lichtdichten Film, im widerstrebenden Film, im supraleitendem Film weitverbreitet, in Magnetfilm, etc. besonders anfertigte die verfügbare Produktion.


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