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TiO2 Al2O3 Optische Beschichtung ALD-Abscheidungsausrüstung ISO
Doppelbrechungs-Messsystem
Lichtleiterplatten-Anzeigekomponenten-Belastungsgröße Doppelbrechungs-Erkennungsausrüstung
Erkennungsgeräte für UV-Stress-Doppelbrechungs-Messsysteme OEM
NIR-Spannungsdoppelbrechungsmesssystem Erkennungsgeräte VIS-520nm 590nm 650nm
Optische Elemente
BK7-Quarz-Saphir-optische Elemente Antireflektierende mehrschichtige Film-Bikonkav-Linse
UV zu IR Uniaxialer optischer Kristall Saphir Optisches Fenster 600 mm
ZEIT Optical Elements CWL FWHM Schmalbandpass-Interferenz-UV-Lichtfilter
H-K9L Quarzglaskeramik mehrschichtiger dielektrischer Filmreflektor 632,8 nm
Atomic Layer Deposition Equipment
Atomic Layer Deposition ALD-Ausrüstung für die organische elektronische Verpackungsindustrie
AL2O3 Atomic Layer Deposition Equipment für die Nanostrukturmusterindustrie
Biosensor Atomic Layer Deposition ALD-Maschine für die Sensorindustrie
Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine
Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System im Bereich Funktionsfilm
Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System für die medizinische Behandlung
Laser-Interferometer-System
Bereich-Laser-Interferometer-System im optischen Prozess
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Gesamt 14 Seiten